장비설명 - 관찰하고자하는 소재의 구조보다 작은 파장의 전자를 고전압(200kV)으로 가속하여 소재에 투과시켜서 발생하는 영상을 이용하여 결정 구조와 화학 성분의 변화를 정밀하게 분석할 수 있어 나노 구조체(전자, 반도체, LED, 박막 등) 분석에 필수적인 장비 주요규격 - Gun Source : Schottky Field Emission Gun - Accelerating Voltage : 20~200 kV - Magnification : 25~1,030,000 (STEM : 150~2,300,000) - Holder : Double-Tilt, Low-Background Double-Tilt, Tomography - EDS System(NORAN) 장비활용예 - 관찰하고자하는 소재의 구조보다 작은 파장의 전자를 고전압(200kV)으로 가속하여 소재에 투과시켜서 발생하는 영상을 이용하여 결정 구조와 화학 성분의 변화를 정밀하게 분석할 수 있어 나노 구조체(전자, 반도체, LED, 박막 등) 분석에 필수적인 장비 - 관찰하고자하는 소재의 구조보다 작은 파장의 전자를 고전압(200kV)으로 가속하여 소재에 투과시켜서 발생하는 영상을 이용하여 결정 구조와 화학 성분의 변화를 정밀하게 분석할 수 있어 나노 구조체(전자, 반도체, LED, 박막 등) 분석에 필수적인 장비